近日，美國泛林公司宣布與 ASML 阿斯麥、 IMEC 比利時(shí)微電子中心合作開發(fā)了新的 EUV 光刻技術(shù)，不僅提高了 EUV 光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠的用量最多降至原來的 1/10 ，大幅降低了成本。
泛林 Lam Research 的名字很多人不清楚， 前不久中芯國際宣布的 6 億美元半導(dǎo)體設(shè)備訂單就是購買的泛林的產(chǎn)品 。
泛林是一家美國公司，也是全球半導(dǎo)體裝備行業(yè)的巨頭之一，與應(yīng)用材料、 KLA 科磊齊名， 2019 年?duì)I收 95 億美元，在全球半導(dǎo)體裝備行業(yè)位列第四，僅次于 ASML 、 TEL 日本東京電子及 KLA 。
泛林生產(chǎn)的設(shè)備主要是蝕刻機(jī)、 CVD （化學(xué)氣相沉積）、清洗、鍍銅等設(shè)備，其中來自中國市場的客戶是第一大來源。
這次取得重大突破的不是半導(dǎo)體裝備，而是 一項(xiàng)用于 EUV 光刻圖形化的干膜光刻膠技術(shù) ，而光刻膠是半導(dǎo)體生產(chǎn)中最重要的原料之一，尤其是 EUV 光刻膠，門檻極高，全球僅有幾家公司能產(chǎn)。
泛林表示， 全新的干膜光刻膠技術(shù)將有助于提高 EUV 光刻的分辨率、生產(chǎn)率和良率 。
泛林集團(tuán)的干膜光刻膠解決方案提供了顯著的 EUV 光敏性和分辨率優(yōu)勢，從而優(yōu)化了單次 EUV 光刻晶圓的總成本。
根據(jù)泛林所說，全新的干膜光刻膠應(yīng)用和顯影技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)更低的劑量和更高的分辨率，從而增加生產(chǎn)率并擴(kuò)大曝光工藝窗口。
此外， 通過將原材料的用量降低至原來的五分之一到十分之一 ，泛林集團(tuán)的干膜光刻膠技術(shù)不僅為客戶大幅節(jié)省了運(yùn)營成本，同時(shí)還為環(huán)境、社會和公司治理提供了一種更加可持續(xù)的解決方案。
