3月23日消息，ASML和英偉達、臺積電、新思科技（Synopsys）攜手合作，經歷四年開發(fā)，終于完成全新的?AI?加速技術?cuLitho。據介紹，CuLitho?可以將下一代芯片計算光刻度提高?40?倍以上，使得?2nm?及更先進芯片的制造成為可能。
cuLitho?是一個用于運算式微影函數(shù)庫，將可縮短先進制程芯片的光罩時程、拉升良率并大幅減低晶圓制造所需的能耗。
? ? ?據臺聯(lián)報報道，臺積電將在今年?6?月對?cuLitho?進行生產資格認證，并完成?2nm?試產，用于提升?2?納米制程良率，并縮短量產時程。
據介紹，用于計算光刻的全新?NVIDIA?cuLitho?軟件庫已經被臺積電和新思科技集成到其最新一代?NVIDIA?Hopper?架構?GPU?的軟件、制造流程和系統(tǒng)中，而設備制造商?ASML?則在?GPU?和?cuLitho?方面與?NVIDIA?密切合作，并計劃將對?GPU?的支持集成到其所有的計算光刻軟件產品中。
? ? ?NVIDIA?黃仁勛表示，“芯片行業(yè)是世界上幾乎所有其他行業(yè)的基礎，隨著光刻技術達到物理極限，NVIDIA?推出?cuLitho?并與我們的合作伙伴?TSMC、ASML?和?Synopsys?合作，使晶圓廠能夠提高產量、減少碳足跡并為?2nm?及更高工藝奠定基礎?！?br />? ? ?英偉達表示，相比目前的光刻技術?——?在硅片上刻蝕圖案的過程?——cuLitho?可帶來?40?倍的性能飛躍，大大加了速那種“每年消耗數(shù)百億?CPU?小時”的大規(guī)模計算工作。
據悉，它可以用?500?個?NVIDIA?DGX?H100?系統(tǒng)實現(xiàn)原本?40000?個?CPU?系統(tǒng)才能完成的工作，并行運行計算光刻過程的所有部分，從而有助于減少電能需求和潛在的環(huán)境影響。
? ?“計算光刻是芯片設計和制造領域中最大的計算工作負載，每年消耗數(shù)百億?CPU?小時。大型數(shù)據中心?24x7?全天候運行，以便創(chuàng)建用于光刻系統(tǒng)的掩膜板。這些數(shù)據中心是芯片制造商每年投資近?2000?億美元的資本支出的一部分?！秉S仁勛表示，cuLitho?能夠將計算光刻的速度提高到原來的?40?倍。舉例來說，英偉達?H100?GPU?的制造需要?89?塊掩膜板，在?CPU?上運行時，處理單個掩膜板需要兩周時間，而在?GPU?上運行?cuLitho?只需?8?小時。
? ? ? 據介紹，臺積電可通過在?500?個?DGX?H100?系統(tǒng)上使用?cuLitho?加速，將功率從?35MW?降至?5MW，替代此前用于計算光刻的?40000?臺?CPU?服務器。使用?cuLitho?的晶圓廠每天可以生產?3-5?倍多的掩模?(Mask，也叫光罩，即芯片設計的模板)?，但僅需要當前配置電力的?1/9。
? ? ? 當然，cuLitho?加速庫雖然也可以與?Ampere?和?Volta?GPU?兼容，但?Hopper?才是目前最快的解決方案。?
