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SK 海力士考慮引入高達(dá) 4 億美元 的 ASML 光刻機(jī)

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11 月 15 日消息傳來,在芯片制造領(lǐng)域引發(fā)了廣泛關(guān)注。韓國芯片大廠SK 海力士于昨天對外表示,公司正在考慮使用 ASML 公司造價(jià)高達(dá) 4 億美元的高數(shù)值孔徑極紫外光(High NA EUV)微影系統(tǒng)設(shè)備,目的是用于生產(chǎn)下一代存儲器芯片。

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據(jù)路透社報(bào)道,SK 海力士技術(shù)長 Seon - yong Cha 在 14 日于荷蘭舉行的 ASML 投資人日上,通過預(yù)錄影片透露了這一重要信息,表明公司正在積極考慮引進(jìn)這臺堪稱全球最昂貴的芯片制造設(shè)備。


盡管這臺設(shè)備價(jià)格不菲,但它的魅力卻無法阻擋。據(jù)悉,臺積電和英特爾等芯片行業(yè)的巨頭公司都已經(jīng)下單購買。外媒在本月稍早時(shí)候引述消息人士的報(bào)道稱,臺積電訂購的 High - NA EUV 設(shè)備首批機(jī)件,將在年底前運(yùn)抵臺灣。而英特爾更是早在幾個(gè)月前就已經(jīng)收到了這臺設(shè)備,可見這些行業(yè)領(lǐng)先企業(yè)對這一先進(jìn)設(shè)備的重視程度。

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