10 月 22 日消息,韓媒 ZDNET Korea 當?shù)貢r間昨日報道稱,
三星電子在本月實現(xiàn)了一項重大突破,首次開發(fā)出 1c nm(第 6 代 10nm 級)DRAM 內存 Good Die 良品晶粒。這一成果在公司內部得到了積極評價。
然而,
三星的 1c nm DRAM 量產(chǎn)開發(fā)仍需一段時間。目前,首批產(chǎn)品良率不足一成。在產(chǎn)能方面,三星電子計劃在今年底前建成第一條 1c nm DRAM 內存量產(chǎn)線。
參考相關報道,三星電子下代 HBM 內存 HBM4 預計將基于 1c nm DRAM。三星此舉旨在通過制程優(yōu)勢追趕在 HBM3E 量產(chǎn)供應上更為快速的 SK 海力士與
美光兩大對手,從而奪回在 HBM 領域的市場份額。
根據(jù)行業(yè)以往慣例,每代 DRAM 制程通常首先應用于 DDR 通用內存,然后逐漸擴展到 LPDDR,最終再在對 DRAM 良率與性能要求嚴苛的 HBM 上使用。
不過,考慮到 1c nm DRAM 世代首臺產(chǎn)線直到今年底才會建成,全面量產(chǎn)最早也需要到 2025 上半年。而此前消息稱三星電子 HBM4 將于 2025 年底量產(chǎn),這意味著三星很可能在 1c nm 上打破常規(guī)順序,對該 DRAM 制程的良率與性能爬坡速度提出了更高要求。
億配芯城(ICgoodFind)總結:三星電子在 DRAM 領域的新突破為半導體行業(yè)帶來了新的活力。在競爭激烈的市場環(huán)境中,技術創(chuàng)新和量產(chǎn)能力至關重要。億配芯城(ICgoodFind)將持續(xù)關注半導體行業(yè)的動態(tài),為客戶提供優(yōu)質的電子元器件及專業(yè)服務,共同見證行業(yè)的發(fā)展與進步。