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9月28日消息，據(jù)《日本經(jīng)濟新聞》報道，荷蘭半導體光刻機設備巨頭阿斯麥(ASML)計劃2024年下半年在日本北海道設立技術(shù)支持基地，為計劃實現(xiàn)先進半導體量產(chǎn)的Rapidus公司提供建廠和維護檢修方面的幫助，并到2028年前后將日本員工人數(shù)提升40%。
阿斯麥在半導體的主要制造設備光刻機領域是世界巨頭，而且還壟斷了極紫外光刻（EUV）技術(shù)。EUV技術(shù)是量產(chǎn)5至7納米以下的尖端芯片的必備技術(shù)，因此阿斯麥的支持不可或缺。
阿斯麥將在北海道千歲市周邊設立技術(shù)支持基地。大約50名技術(shù)人員將為Rapidus的半導體試生產(chǎn)線安裝EUV設備，同時幫助其建設工廠、進行維護檢修。
此外，美國半導體巨頭應用材料公司未來幾年將在日本增加60%的員工，泛林集團也考慮在北海道成立新設施。
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