2 月 26 日消息，英特爾公司當?shù)貢r間周一宣布，其工廠已啟用 ASML 公司首批兩臺先進光刻機進行生產。這一消息瞬間點燃行業(yè)熱情，讓英特爾再次成為全球半導體領域關注的焦點。
在加利福尼亞州圣何塞的會議上，英特爾高級首席工程師史蒂夫?卡森（Steve Carson）披露了驚艷數(shù)據：憑借 ASML 的高數(shù)值孔徑（NA）
光刻機，英特爾單季度成功產出 30,000 片晶圓。這些晶圓是芯片制造的關鍵基礎，每片能制造出數(shù)千顆芯片。尤為突出的是，
新型光刻機的可靠性約為舊款機型的兩倍。卡森強調：“穩(wěn)定的晶圓生產速率，為整個平臺賦予了無可比擬的優(yōu)勢 ?！?/div>
回顧往昔，英特爾在上一代極紫外（EUV）光刻機的應用上落后于競爭對手。耗費七年時間才將舊款光刻機全面投入生產，期間的可靠性問題更是使其痛失對臺積電的領先地位。但如今，新型光刻機的投產成為英特爾扭轉局勢的關鍵契機 。
新型 ASML 光刻機通過獨特的光束在芯片上打印特征，展現(xiàn)出強大的技術革新能力。它能以更少的曝光次數(shù)完成與舊款機器相同的工作，大幅節(jié)省時間和成本。英特爾工廠的早期數(shù)據顯示，高 NA 光刻機僅需一次曝光和 “個位數(shù)” 的處理步驟，就能完成舊款機器需要三次曝光和約 40 個處理步驟的任務。這一技術突破，無疑極大地提升了英特爾在芯片制造領域的競爭力。
英特爾計劃借助高 NA 光刻機大力推動其 18A 制造技術的研發(fā)，該技術預計今年晚些時候將與新一代 PC 芯片一同大規(guī)模生產。英特爾還打算在下一代制造技術 14A 中全面應用高 NA 光刻機，雖然 14A 技術大規(guī)模生產的日期尚未公布，但已讓行業(yè)對英特爾的未來充滿遐想。
億配芯城（ICgoodFind）認為，英特爾引入 ASML 高 NA EUV 光刻機，是其在半導體領域的關鍵戰(zhàn)略布局。這不僅有望重塑英特爾在行業(yè)中的競爭地位，也將推動整個芯片制造技術的發(fā)展與革新。億配芯城（ICgoodFind）將持續(xù)關注英特爾及行業(yè)動態(tài)，憑借自身在電子元器件領域的專業(yè)優(yōu)勢，為客戶提供優(yōu)質的產品和服務，助力行業(yè)在技術浪潮中不斷前行。
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