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新一代EUV光刻機(jī)將至:為什么ASML能稱霸光刻機(jī)市場(chǎng)?

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近日,荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)公司2019年的年報(bào)中披露了關(guān)于下一代EUV極紫光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)程,預(yù)計(jì)2022年年初開(kāi)始出貨,2024年實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。

新一代EUV光刻機(jī)分辨率提升70%

據(jù)悉,新一代EUV光刻機(jī)EXE:5000系列,NA(數(shù)值孔徑)為0.55,NA大小則代表了光刻機(jī)的精度高低,NA數(shù)值越大,光刻機(jī)精度更高。

現(xiàn)在ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)都是第一代產(chǎn)品,主要是NXE:3400B和改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者結(jié)構(gòu)相似,物鏡系統(tǒng)的NA(數(shù)值孔徑)為0.33。這意味著新一代EUV光刻機(jī)分辨率相比前一代提升了70%左右,可以進(jìn)一步提升精度。

ASML的EXE:5000系列EUV光刻機(jī)主要面向3nm時(shí)代,目前臺(tái)積電和三星已經(jīng)開(kāi)始積極量產(chǎn)5nm工藝芯片,3nm工藝制程路線圖也早早就開(kāi)始了布局,要想讓技術(shù)盡快落地,EXE:5000系列EUV光刻機(jī)的研發(fā)極為重要。

內(nèi)外兼修,ASML稱霸光刻機(jī)市場(chǎng)名副其實(shí)

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,也是世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一。光刻機(jī)的制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ),能夠掌握這項(xiàng)技術(shù)的廠商寥寥無(wú)幾,目前比較知名的光刻機(jī)廠商有尼康、佳能、ABM、歐泰克、上海微電子裝備、SUSS等,但是在頂級(jí)光刻機(jī)領(lǐng)域,卻唯有ASML一家獨(dú)大。

ASML可謂出身名門,原本是荷蘭著名的電器制造商飛利浦公司半導(dǎo)體部門拆分出來(lái)的獨(dú)立公司,1995年公司在 NASDAQ與阿姆斯特丹交易所上市, 2001年更名為 ASML。

名門背景只是ASML成功的小部分原因,真正能讓ASML與世界上那么多半導(dǎo)體巨頭捆綁在一起,還要提起ASML一項(xiàng)特殊的規(guī)定。這項(xiàng)規(guī)定就是,首先要先投資ASML,才能夠成為ASML的客戶,獲得優(yōu)先供貨權(quán)。這項(xiàng)規(guī)定看著奇怪,但卻異常有效,也許是為了避免自己在日后的半導(dǎo)體大戰(zhàn)中落后,世界各地半導(dǎo)體巨頭紛紛注資,包括英特爾、三星、臺(tái)積電、海力士等,都在ASML中占據(jù)了相當(dāng)可觀的股份。

正如金庸老爺子筆下“內(nèi)外兼修”的武林高手一般,ASML除了外在資本支持以外,自身也走出了一條并購(gòu)逆襲的道路:

2000年,ASML收購(gòu)了美國(guó)光刻機(jī)廠商SVGL,市場(chǎng)份額反超佳能,躍升至37%,直追尼康;

2012年,ASML斥資25億美元(約合人民幣174.87億元),收購(gòu)了全球知名準(zhǔn)分子激光器廠商Cymer,以此加強(qiáng)光刻機(jī)光源設(shè)備及技術(shù);

2016年,ASML斥資1000億新臺(tái)幣(約合人民幣219.34億元)收購(gòu)了臺(tái)灣半導(dǎo)體設(shè)備廠商漢微科,為公司提供了先進(jìn)的電子束晶圓檢測(cè)設(shè)備及技術(shù);

2016年ASML以10億歐元(約合人民幣7.82億元)收購(gòu)了德國(guó)卡爾蔡司子公司24.9%的股份,加強(qiáng)自身微影鏡頭技術(shù);

2019年,ASML再次宣布,收購(gòu)其競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手光刻機(jī)制造商Mapper。

回顧ASML浩浩蕩蕩的收購(gòu)史,終讓其成為光刻機(jī)設(shè)備王者。實(shí)際上,ASML的成功不僅僅是自身努力的結(jié)果,更是多個(gè)企業(yè)、多個(gè)國(guó)家共同努力的結(jié)果,ASML的成功也代表了數(shù)個(gè)國(guó)家的成功。

根據(jù)2019年ASML財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)顯示,ASML在2019年共交付26套EUV光刻機(jī),占凈系統(tǒng)銷售額的31%,約27.89億歐元(約214.26億人民幣),凈銷售額為118.2億歐元(約907.3億人民幣),同比增長(zhǎng)8%;凈利潤(rùn)為25.92億歐元(約198.9億人民幣),同比維持不變。光刻機(jī)作為一個(gè)高精尖技術(shù)的集合體,對(duì)于各大廠商來(lái)說(shuō)其背后所能產(chǎn)生的價(jià)值絕對(duì)遠(yuǎn)高于此。

這些年來(lái),國(guó)內(nèi)也在積極布局光刻機(jī)設(shè)備研發(fā),如上海微電子、中電科四十五所、中電科四十八所等,都已經(jīng)成功研制出了光刻機(jī)產(chǎn)品。但是想達(dá)到國(guó)際一流的光刻機(jī)水平,面臨的挑戰(zhàn)太多、太難,差距不是一星半點(diǎn)。但是我們依然努力相信,未來(lái)國(guó)內(nèi)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)也能夠給國(guó)人帶來(lái)更多好消息。

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