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2019年全球光刻機市場分析

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根據(jù)芯思想研究院(ChipInsights)的數(shù)據(jù)表明,2019年全球半導體、面板、LED用光刻機出貨約550臺,較2018年減少50臺。其中半導體前道制造用光刻機出貨約360臺;半導體封裝、面板、LED用光刻機出貨約190臺。


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一、前道用光刻機情況




2019年ASML、Nikon、Canon三巨頭半導體用光刻機出貨359臺,較2018年的374臺減少15臺,跌幅為4%。
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從EUV、ArFi、ArF機型的出貨來看,全年共出貨154臺。其中ASML出貨130臺,占有84%的市場,較2018年下降6個百分點。
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EUV方面還是ASML獨占鰲頭,市占率100%;ArFi方面ASML市占率高達88%;ArF方面ASML占有63%的市場份額;KrF方面ASML也是占據(jù)63%的市場份額;在i方面ASML也拿下了該拿的份額。
從總營收來看,2019年ASML、Nikon、Canon三巨頭光刻機總營收954億元人民幣,較2018年小幅增長。從營收占比來看,ASML占據(jù)74%的份額。雖然2019年光刻機出貨數(shù)量有所下滑,但高端機臺EUV、ArFi、ArF的出貨量增加,也使得總體營收微幅增長。?
ASML?2019年ASML光刻機營收達704億元人民幣,較2018年成長9%,增幅明顯收窄(2018年較2017年成長36%)。?2019年ASML共出貨229臺光刻機,較2018年224年增加5臺,增長2.23%。其中EUV光刻機出貨26臺,較2018年增加8臺;ArFi光刻機出貨82臺,較2018年減少4臺;ArF光刻機出貨22臺,較2018年增加6臺;KrF光刻機出貨65臺,較2018年減少13臺;i-line光刻機出貨34臺,較2018年增加8臺。?2019年ASML的EUV光刻機營收達217億元人民幣,較2018年增加70億元人民幣。2019年單臺EUV平均售價超過8億元人民幣,較2018年單臺平均售價增長3%。?值得注意的是,2019年第三季度,ASML開始出貨NXE:3400C,這是最新型的EUV光刻機,吞吐量達175wph(300毫米晶圓)。NXE:3400C目前累計出貨9臺,估算單價接近10億元人民幣。?2019年中國FAB建設高潮,多個FAB搬入設備,其中搬入ASML光刻機的有中芯南方基地、華虹無錫FAB7、粵芯半導體等。?Nikon?2019年,Nikon光刻機業(yè)務營收約156億元人民幣,較2018年下滑5.4%。?2019年,Nikon半導體用光刻機出貨46臺,較2018年增加10臺。其中ArFi光刻機出貨11臺,較2018年度增加6臺;ArF光刻機出貨13臺,較2017年度增加4臺;KrF光刻機出貨4臺,較2017年度減少1臺;i-line光刻機出貨18臺,較2017年度增加1臺。?2019年度,Nikon半導體用光刻機出貨46臺中,其中全新機臺出貨28臺,翻新機臺出貨18臺。?Canon?2019年,Canon光刻機營收約為94億元人民幣,較2018年下降21.3%。?2019年,Canon半導體用光刻機出貨達84臺,較2018年出貨量114臺,減少30臺,下滑26.3%;全部i-line、KrF兩個低端機臺出貨。?2019年12月,Canon宣布推出FPA-3030iWa型光刻機,預計2020年2月下旬發(fā)售。該機型采用的投影透鏡具有52毫米x52毫米的廣角,NA可從0.16到0.24范圍內(nèi)可調(diào)。新設備可以在2英寸到8英寸之間自由選擇晶圓尺寸的處理系統(tǒng),方便支持各種化合物半導體晶圓,可運用在預計未來需求增長的汽車功率器件、5G相關的通信器件、IoT相關器件(如MEMS和傳感器等)的制造工藝中。?

二、面板、封裝、LED用光刻機情況




Nikon?2019年,Nikon面板(FPD)用光刻機出貨40臺,較2018年減少33臺。2019年,Nikon面板用光刻機雖然出貨減少33臺,但我們也看到其10.5代線用光刻機出貨量增長不錯,從2018年出貨14臺增長到2019年的22臺,爆增60%。?Canon?2019年,Canon面板(FPD)用光刻機出貨50臺,較2018年出貨量69臺,減少19臺,下滑27.5%。??上海微電子SMEE?上海微電子裝備(集團)股份有限公司光刻機主要用于廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造領域,2019年出貨預估在50+臺,和2018年基本持平,主要集中在先進封裝、LED方面,在FPD領域也有出貨。?SUSS?德國SUSS光刻機主要用于半導體集成電路先進封裝、MEMS、LED,2019年光刻機收入約7億元人民幣,和2018年幾乎持平。?VEECO
2017年Veeco收購Ultratech,增加了光刻市場的收入,主要是來自先進封裝和LED領域,銷售客戶包括先進封裝、晶圓制造、LED生產(chǎn)商。2019年公司來自先進封裝和LED用光刻機的營收約為3億元人民幣,預估銷售臺數(shù)在20臺以內(nèi)。?EVG
公司的光刻設備主要應用于先進封裝、面板等行業(yè),當然公司也出售對準儀等。?

三、EUV進展




從2018年以來,公司一直在加速EUV技術(shù)導入量產(chǎn);二是實驗以0.55 NA取代目前的0.33 NA,具有更高NA的EUV微影系統(tǒng)能將EUV光源投射到較大角度的晶圓,從而提高分辨率,并且實現(xiàn)更小的特征尺寸。?2019年第三季度,ASML已經(jīng)出貨EUV新機型NXE:3400C,每小時吞吐量為175片,完全滿足7納米和5納米工藝。?預估2021年將推出0.55 NA的新機型EXE:5000樣機,可用于2納米生產(chǎn),按照之前的情況推測,真正量產(chǎn)機型出貨可能要等到2024年。當然0.55 NA鏡頭的研發(fā)進度也會影響新機型的出貨時間。?2019年ASML全年出貨26臺EUV光刻機,還是因為產(chǎn)能有限所致。?DRAM公司將在2020年底搬入EUV光刻機,表示著EUV將進入存儲器產(chǎn)線,這將對ASML的未來產(chǎn)量提出更多挑戰(zhàn)。



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