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2019年世界半導(dǎo)體光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)情況

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據(jù)芯思想研究院報(bào)道:2019年全球半導(dǎo)體、面板、LED用光刻機(jī)出貨550臺(tái),同比下降8.33%,其中半導(dǎo)體前道制造光刻機(jī)出貨約360臺(tái),半導(dǎo)體封裝、面板、LED用光刻機(jī)約190臺(tái)。

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半導(dǎo)體前道制造光刻機(jī)廠商主要有三家ASML、NiKON、Canon,共出貨359臺(tái),占65.3%,同比下降4.0%。

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以EUV、ArFi、ArF機(jī)型來(lái)看,全年共出貨154臺(tái)。

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ASML在2019年三季度推出EUV新機(jī)型NXE3400C,產(chǎn)能為175片/H,可滿足7/5nm工藝要求,在2021年將推出NXE5000樣機(jī),可用于2nm生產(chǎn),在2024年可面市供應(yīng)。ASML出貨130臺(tái),占市場(chǎng)84%的份額,但比2018年占有率下降6個(gè)百分點(diǎn);在EUV占100%、ArFi占88%、ArF占63%;2019年?duì)I收額達(dá)704億元人民幣,較2018年成長(zhǎng)9%,占到三大型光刻機(jī)市場(chǎng)總營(yíng)收入的73.8%的份額;出貨229臺(tái),占到總出貨量的63.8%。

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NiKON ?2019年?duì)I收額為156億元人民幣,同比下降5.4%,出貨量為46臺(tái),占到總量的12.8%。

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Canon 2019年?duì)I收額為94億元人民幣,同比下降21.3%,出貨量為84臺(tái),占到總量的23.4%。

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SMEE(上海微電子)生產(chǎn)的光刻機(jī)主要用于IC前道、先進(jìn)封裝、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造領(lǐng)域。2019年出貨超50臺(tái),與2018年基本持平。

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SUSS為德國(guó)公司,主要生產(chǎn)用于先進(jìn)封裝、MEMS、LED,年收入約9億元人民幣。

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EVG公司生產(chǎn)的光刻機(jī)主要用于先進(jìn)封裝、面板等行業(yè),也生產(chǎn)對(duì)準(zhǔn)儀等。


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