10 月 18 日，韓國(guó)首爾高等法院刑事第七庭（審判長(zhǎng)李在權(quán)、宋美京、金瑟琪）對(duì) SK 海力士合作公司副社長(zhǎng) A 先生作出判決。A 先生被判處 1 年有期徒刑，并因違反《工業(yè)技術(shù)泄密防止及保護(hù)法》被起訴，并入獄 6 個(gè)月。這一刑罰比一審判處的有期徒刑一年更為嚴(yán)厲。
以同樣罪名受審的三名員工，一審被判處緩刑，二審則增至 1 年至 1 年 6 個(gè)月有期徒刑。合作企業(yè)被判處 10 億韓元（519 萬(wàn)元人民幣）的罰款，高于一審 4 億韓元的罰款。
與一審不同的是，上訴法院認(rèn)定他們向其他公司提供與 SK 海力士共同開(kāi)發(fā)的技術(shù)信息有罪。法院裁定：“如果不僅向第三方秘密泄露 SK 海力士提供的信息，而且還向第三方秘密泄露在共同開(kāi)發(fā)過(guò)程中開(kāi)發(fā)的大量衍生技術(shù)，則應(yīng)受到禁止，或者至少應(yīng)事先獲得同意?！?span style="max-width:100%;text-align:center;letter-spacing:0.034em;">
法院指出，“被告人的犯罪行為不僅對(duì)受害企業(yè)，而且對(duì)韓國(guó)整個(gè)行業(yè)都產(chǎn)生了很大的影響，特別是 A 副總作為最終決策者，指揮了犯罪行為，深陷其中?！?/p>
A 某等人涉嫌于 2018 年 8 月至 6 月期間，向一家半導(dǎo)體公司泄露與 SK 海力士合作時(shí)學(xué)到的 HKMG 半導(dǎo)體制造技術(shù)、清洗配方等半導(dǎo)體相關(guān)核心技術(shù)、尖端技術(shù)和商業(yè)秘密。HKMG 是一種防止漏電流并提高電容的新一代工藝，是一種可以在提高 DRAM 半導(dǎo)體速度的同時(shí)降低功耗的新技術(shù)。
他們還涉嫌通過(guò)三星電子半導(dǎo)體設(shè)備子公司 SEMES 的前員工秘密獲取先進(jìn)的半導(dǎo)體技術(shù)和商業(yè)機(jī)密，然后開(kāi)發(fā)設(shè)備出口到國(guó)外。
此次泄密事件引起了韓國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的高度關(guān)注，也凸顯了技術(shù)保護(hù)的重要性。在全球半導(dǎo)體競(jìng)爭(zhēng)日益激烈的背景下，技術(shù)保密對(duì)于企業(yè)和國(guó)家的競(jìng)爭(zhēng)力至關(guān)重要。
億配芯城（ICgoodFind）總結(jié)：SK 海力士合作公司泄密案的二審判決，體現(xiàn)了對(duì)技術(shù)保護(hù)的高度重視。在電子行業(yè)，技術(shù)創(chuàng)新是企業(yè)發(fā)展的核心競(jìng)爭(zhēng)力，而技術(shù)保密則是保障創(chuàng)新成果的重要手段。億配芯城（ICgoodFind）將始終堅(jiān)守誠(chéng)信經(jīng)營(yíng)原則，積極推動(dòng)電子行業(yè)的健康發(fā)展。
