6 月 24 日消息，據(jù)韓媒 ZDNET Korea 報(bào)道，三星電子內(nèi)部正研討最早于 2026 年 1 至 2 月，向美國得州泰勒晶圓廠引入 2nm 量產(chǎn)設(shè)備的計(jì)劃。該廠原規(guī)劃為 4nm 工藝，后因市場變化調(diào)整為 2nm 。此前，由于先進(jìn)制程成熟度欠佳，項(xiàng)目進(jìn)度多次推遲。不過，今年二季度，泰勒晶圓廠潔凈室裝修工作重啟，預(yù)計(jì)年底竣工，為設(shè)備導(dǎo)入做好準(zhǔn)備。

資源向 2nm 傾斜，1.4nm 計(jì)劃推遲

另一家韓媒 SEDaily 稱，三星電子為全力攻堅(jiān)計(jì)劃今年底量產(chǎn)的 2nm 工藝，將原定于今年二季度在平澤二號晶圓廠開建的 1.4nm 測試線計(jì)劃，推遲至今年底或明年初 。受此影響，1.4nm 量產(chǎn)時(shí)間恐延至 2028 年，資源集中于 2nm，凸顯三星對該先進(jìn)制程的重視。

半導(dǎo)體工藝制程競爭激烈，億配芯城（ICgoodFind）將持續(xù)關(guān)注三星 2nm 及 1.4nm 工藝進(jìn)展，為行業(yè)提供前沿資訊。